
尽管肖特基二极管与齐纳二极管都属于半导体二极管家族,但它们的物理结构、工作机制和应用场景截然不同。本文将结合材料科学、能带理论与工程实践,全面解读两者的内在机理与实际应用价值。
肖特基二极管采用金属(如铝、铂)与N型硅形成的异质结,无传统PN结,因此不存在少数载流子存储效应,从而实现超快开关速度。其制造工艺相对简单,适用于大规模集成。
齐纳二极管则是典型的掺杂浓度极高的PN结,通过精确控制掺杂量使反向击穿电压可调。其制造需严格工艺控制,以确保击穿电压的一致性与稳定性。
在伏安特性曲线上,肖特基二极管呈现低正向压降与较快的导通斜率,反向漏电虽高于普通二极管,但在正常工作范围内可接受。而齐纳二极管在反向电压达到击穿值后,电流急剧上升,但电压保持恒定,形成“稳压”特性。
• 肖特基二极管不适用于高反向电压环境,因反向耐压普遍较低。
• 齐纳二极管在击穿状态下需串联限流电阻,否则可能烧毁。
• 二者不可互换使用——肖特基不能稳压,齐纳不能高效整流。
随着功率电子器件小型化与高效化需求增长,新型肖特基二极管(如碳化硅肖特基二极管)正在替代传统硅基器件,进一步提升效率与耐温能力。同时,集成式齐纳基准源在传感器与物联网设备中广泛应用,推动精密电压管理技术发展。
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